Materials Science of Thin Films. Deposition and Structure, Second Edition (Relié)

Milton Ohring

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  • Academic press

  • Paru le : 21/10/2001
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This new edition of the author's well-received Tee Materials Science of Thin Films is thoroughly revised, and fully up-to-date. Written in a fluent tutorial manner, this book * Contains extensive tables, figures, and recent references related to thin film science and technology * Treats both physical and chemical vapor deposition of thin films * Emphasizes the growing importance of plasma and ion beam processing * Traces thin film formation from nucleation to the final grain structure and morphology * Discusses aspects of epitaxy and their implications for compound semiconductor films and optoelectronic devices * Describes the rotes of solid-state mass transport and stress in thin-film phenomena * Presents recent advances in measurement of film thickness and characterization of surface structure and composition * Has a complete set of exercises to aid student learning As a result, readers will better understand the primary research and technical literature in the field and more intelligently select and optimize film deposition and treatment processes.
    • A review of materials science
    • Vacuum science and technology
    • Thin-film evaporation processes
    • Discharges, plasmas, and ion-surface interactions
    • Plasma and ion beam processing of thin films
    • Chemical vapor deposition
    • Substrate surfaces and thin-film nucleation
    • Epitaxy
    • Film structure
    • Characterization of thin films and surfaces
    • Interdiffusion, reactions, and transformations in thin films
    • Mechanical properties of thin films
  • Date de parution : 21/10/2001
  • Editeur : Academic press
  • ISBN : 0-12-524975-6
  • EAN : 9780125249751
  • Présentation : Relié
  • Nb. de pages : 794 pages
  • Poids : 1.275 Kg
  • Dimensions : 16,0 cm × 23,5 cm × 4,0 cm

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