Dépots multicouches fer/tungstène sur substrat de fer

L'étude a porté sur la détermination, l'élaboration et la caractérisation d'une couche mince limitant le gradient de température sous l'effet d'un bombardement électronique. Les matériaux choisis sont le tungstène associé au fer sous sa forme oxyde de fer. Le tungstène est un matériau réfractaire avec un haut coefficient de rétrodiffusion des électrons. De plus, la magnétite possède un bon coefficient d'émissivité thermique.
Ces deux propriétés sont essentielles pour éviter la déformation due au gradient de température. L'étude a porté sur les dépôts de couches minces (système bicouche) oxyde de Fe/ W mais aussi alliage Fe-W sur substrat de Fe. Les dépôts ont été réalisés par pulvérisation magnétron au moyen d'un générateur à décharge continue (pulsée ou non) avec ou sans l'assistance d'un plasma auxiliaire radiofréquence créé par une antenne interne.
Pour tenter d'obtenir une couche mince de Fe3O4, nous avons étudié les oxydations ex-situ après dépôts ainsi qu'in-situ pendant ou après dépôts (en les comparant entre elles). Les caractérisations ont concerné l'étude de la structure, l'adhérence, la composition et la mesure des propriétés optiques infrarouge et thermiques.